聯華林德透過與林德集團的密切合作，能夠提供各種高品質的電子級特殊氣體和氣體應用技術。除此之外，為了因應市場的快速成長，聯華林德也投入鉅資於高效能的特殊氣體生產設備。
電子材料事業的專業
安全
- 最即時的緊急應變能力（HIRT）
- 實踐全球最高標準的安全規範
員工
- 專業人員投入於電子材料管理與生產
品質
- 確保提供最高品質的客製化產品
產品
- 20種自有產品
- 超過70種產品清單
- 策略性的夥伴關係
技術
- ERDC先進分析能力及新產品開發
- 與客戶共同研發合作
ESG在地化生產
- 桃園觀音的桃科廠建置
- 持續擴充中港廠的生產投資
- 中國NH3, N2O 和HBr的生產
聯華林德佈局投資
台灣領先的電子氣體製造商
- 聯華林德北部觀音工廠
- 聯華林德中部中港工廠
- 聯華林德南部大發工廠
中國境內領先的電子特氣工廠
- 聯華林德天津產線
- 聯華林德鎮江工廠
- 聯華林德廈門工廠
- 林德蘇州工廠
產品清單
Deposition（沉積）/ Thin film（薄膜）
| Argon （Ar） |
Helium （He） |
Hydrogen （H2）* |
Nitrogen （N2）* |
| Mixtures （Calibration etc） |
Hexachlorodisilane （HCDS） |
Octafluorocyclobutane （C4F8） |
Nitrogen trifluoride （NF3） |
| Nitrous oxide （N2O） |
1% / 10% Germane mixture （GeH4 / H2） |
Ammonia （NH3） |
Dichlorosilane （SiH2Cl2） |
| Disilane （Si2H6） |
Germane （GeH4） |
Hexachlorodisilane （Si2Cl6） |
Silane （SiH4） |
| Trichlorosilane （SiHCl3） |
Etch（蝕刻）
| Argon （Ar） |
Helium （He） |
Hydrogen （H2）* |
Nitrogen （N2）* |
| Mixtures （Calibration etc） |
Otafluorocyclobutane （C4F8） |
Hydrogen Bromide （HBr） |
Carbonmonoxide （CO） |
| Carbondioxide （CO2） |
Tetrafluromethane （CF4） |
Sulfuehexafluroide （SF6） |
Boron trichloride （BCl3） |
| Carbon monoxide （CO） |
Chlorine trifluoride （ClF3） |
Halocarbon 116 （C2F6） |
Halocarbon 218 （C3F28） |
| Halocarbon 41 （CHF3） |
Hydrogen bromide （HBr） |
Hydrogen Fluoride （HF） |
Silicon tetrafluoride （SiF4） |
| Xenon difluoride （XeF2） |
Doping（摻雜）/ Diffusion（擴散）
| Argon （Ar） |
Helium （He） |
Hydrogen （H2）* |
Nitrogen （N2）* |
| Mixtures （Calibration etc） |
20% F2 / N2 mixture | Hexachlorodisilane （HCDS） |
Carbondioxide （CO2） |
| Arsine （AsH3） |
Germane （GeH4） |
Phosphine （PH3） |
Laser gas
| Helium （He） |
Hydrogen （H2）* |
Nitrogen （N2）* |
Mixtures （Calibration etc） |
| Carbondioxide （CO2） |
Ar / F2 / Ne （Argon / Fluorine / Neon - ArF laser） |
Kr / F2 / Ne （Krypton / Fluorine / Neon – KrF laser） |
Ar / Xe / Ne （Argon / Xenon / Neon Mixture） |
| Kr / Ne （Krypton / Neon Mixture） |
Ne （Neon） |
Xe （Xenon） |