電子特殊氣體

聯華林德透過與林德集團的密切合作,能夠提供各種高品質的電子級特殊氣體和氣體應用技術。除此之外,為了因應市場的快速成長,聯華林德也投入鉅資於高效能的特殊氣體生產設備。

電子材料事業的專業

安全

  • 最即時的緊急應變能力(HIRT)
  • 實踐全球最高標準的安全規範

員工

  • 專業人員投入於電子材料管理與生產

品質

  • 確保提供最高品質的客製化產品

產品

  • 20種自有產品
  • 超過70種產品清單
  • 策略性的夥伴關係

技術

  • ERDC先進分析能力及新產品開發
  • 與客戶共同研發合作

ESG在地化生產

  • 桃園觀音的桃科廠建置
  • 持續擴充中港廠的生產投資
  • 中國NH3, N2O 和HBr的生產

聯華林德佈局投資

台灣領先的電子氣體製造商

  • 聯華林德北部觀音工廠
  • 聯華林德中部中港工廠
  • 聯華林德南部大發工廠

中國境內領先的電子特氣工廠

  • 聯華林德天津產線
  • 聯華林德鎮江工廠
  • 聯華林德廈門工廠
  • 林德蘇州工廠

產品清單

Deposition(沉積)/ Thin film(薄膜)

Argon
(Ar)
Helium
(He)
Hydrogen
(H2)*
Nitrogen
(N2)*
Mixtures
(Calibration etc)
Hexachlorodisilane
(HCDS)
Octafluorocyclobutane
(C4F8
Nitrogen trifluoride
(NF3
Nitrous oxide
(N2O)
1% / 10% Germane mixture
(GeH4 / H2
Ammonia
(NH3
Dichlorosilane
(SiH2Cl2
Disilane
(Si2H6
Germane
(GeH4
Hexachlorodisilane
(Si2Cl6
Silane
(SiH4
Trichlorosilane
(SiHCl3
     

Etch(蝕刻)

Argon
(Ar)
Helium
(He)
Hydrogen
(H2)*
Nitrogen
(N2)*
Mixtures
(Calibration etc)
Otafluorocyclobutane
(C4F8
Hydrogen Bromide
(HBr)
Carbonmonoxide
(CO)
Carbondioxide
(CO2
Tetrafluromethane
(CF4
Sulfuehexafluroide
(SF6
Boron trichloride
(BCl3
Carbon monoxide
(CO)
Chlorine trifluoride
(ClF3
Halocarbon 116
(C2F6
Halocarbon 218
(C3F28)
Halocarbon 41
(CHF3
Hydrogen bromide
(HBr)
Hydrogen Fluoride
(HF)
Silicon tetrafluoride
(SiF4
Xenon difluoride
(XeF2
     

Doping(摻雜)/ Diffusion(擴散)

Argon
(Ar)
Helium
(He)
Hydrogen
(H2)*
Nitrogen
(N2)*
Mixtures
(Calibration etc)
20% F2 / N2 mixture Hexachlorodisilane
(HCDS)
Carbondioxide
(CO2
Arsine
(AsH3
Germane
(GeH4
Phosphine
(PH3
 

Laser gas

Helium
(He)
Hydrogen
(H2)*
Nitrogen
(N2)*
Mixtures
(Calibration etc)
Carbondioxide
(CO2
Ar / F2 / Ne
(Argon / Fluorine / Neon - ArF laser)
Kr / F2 / Ne
(Krypton / Fluorine / Neon – KrF laser)
Ar / Xe / Ne
(Argon / Xenon / Neon Mixture)
Kr / Ne
(Krypton / Neon Mixture)
Ne
(Neon)
Xe
(Xenon)